Мишень для распыления

Материалы для осаждения включают мишени для распыления, материалы для испарения и источники испарения.    Распыление является одним из основных методов получения тонкопленочных материалов, при котором ионы, генерируемые ионными источниками, используются для формирования высокоскоростных ионных пучков путем ускоренной агрегации в вакууме, удара по поверхности твердого тела и кинетического обмена энергией, в результате чего ярд твердой поверхности покидает твердое тело и осаждается на поверхности подложки.    Подвергшиеся бомбардировке твердые частицы являются сырьем для осаждения тонкой пленки методом распыления, называемого мишенями для распыления.    Вакуумное испарение – это помещение металлизируемой детали и материала покрытия в вакуумную камеру, вакуумирование, а затем нагрев испаряемого материала, который должен быть испарен и нанесен на поверхность заготовки.    Используемый материал покрытия называется испаряющимся.E FORU специализируется на производстве мишеней для распыления с высокой плотностью и сверхвысокой чистотой (от 99,9% до 99,9999%) и других материалов для осаждения для всех областей применения с использованием технологии вакуумного расплава/литья и горячего изостатического прессования (HIP).